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Demi masque avec valve Oxyline X 210 V FFP2 NR D
4,998TND
TTC
Le Masque anti-poussière FFP2 Oxyline à filtre X 210 V FFP2 NR D est destiné à la protection du système respiratoire contre les aérosols de particules, les aérosols à base d’eau (poussière, fumée) et les aérosols à phase dispersée liquide (brouillard) pour lesquels la CMA est ≥0,05 mg/m3 tant que la concentration de la phase dispersée ne dépasse pas 10 x CMA.
SE0213
Demi-masque à filtre X 210 V FFP2 NR D se compose de :
- matériau filtrant multicouche : polypropylène ;
- pince nasale pour l’installation du demi-masque sur le nez ;
- soupape d’échappement de l’air en matière plastique ;
- bandeaux de tête constitués de fils de caoutchouc dans la tresse ;
- fixation des bandeaux en plastique ;
- joint de nez en mousse de polyuréthane.
SE0213
Références spécifiques
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